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動態光散射原理-納米粒度設備的理論基礎

更新時間:2018-11-26 點擊數:3007

動態光散射原理-納米粒度設備的理論基礎

基于動態光散射原理的納米粒度儀的理論基礎是基于動態光散射原理。納米粒度分析儀的基本測試原理:激光光電倍增管(PMT)放大器/鑒別器數字相關器計算機入射透鏡樣品池基于動態光散射納米粒度分析儀原理基本測試原理圖激光器發射的激光器激光通過入射光路照射到樣品池中的顆粒上。散射光通過接收光路進入光電探測器,然后由數字相關器獲得其光強度的自相關函數G時的散射光強度。對于靜止過程,t = 0。根據高斯光場的Siegert關系,可以獲得光強度自相關函數G的光強度自相關函數的值,其通常被稱為基線。它可以在測試中直接測量,該測試是反映整個光學系統的空間相干性的參數。空間相干因子主要由系統的光學性質決定。對于單分散粒子系統,存在延遲時間; Γ是線寬(或衰減率),其表達式為:粒子的平移擴散系數,q為散射矢量,n為溶劑的折射率,θ為散射角。

對于真空中的光波長。對于納米粒度儀的球形顆粒,根據Stokes-Einstein公式,D與顆粒直徑d具有以下關系:= 1.3810-23是絕對溫度,η是溶劑粘度,d是顆粒直徑。可以看出自相關操作的表征和動態光散射原理的物理意義來測試納米粒子尺寸的理論基礎,在外部條件的條件下,粒徑只是光強度自相關函數的線寬。 (衰減率)納米粒度分析器中動態光散射原理中最關鍵和最主要的任務是獲得散射光的自相關函數。因此,粒度測試方法中的動態光散射法(DLS)也變為光子相關光譜法(PCS)。相關的動態光散射技術是一種常用于處理隨機過程和噪聲理論的方法。

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