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六偏磷酸鈉和十二烷基苯磺酸鈉為分散劑,納米粒度儀利用激光粒度儀對自制近納米氫氧化鋁進行粒徑分析。考察了分散體系、氫氧化鋁溶液濃度、超聲分散時間等因素對近納米氫氧化鋁粒徑測定的影響,并與電鏡所測的近納米氫氧化鋁粒徑作比較,確定了近納米氫氧化鋁粒徑的最佳測定條件。

納米粒度儀就某 種意義上講就是實現(xiàn)原子或分子操作的超精細加工技術(shù)。納米科技的各個領(lǐng)域都涉 及對納米尺度物質(zhì)的形態(tài)、成分、結(jié)構(gòu)及其物理／化學性能（功能）的測量、表征。 納米測量在納米科技中起著信息采集和分析的不可替代的重要作用。它包含納米尺 度可視化、納米尺度測量和納米尺度物質(zhì)性能分析等內(nèi)容。現(xiàn)在納米技術(shù)的發(fā)展已 經(jīng)能夠制造納米尺度的樣品。亞微米到納米精度的維度測量已經(jīng)成為目前工業(yè)發(fā)展 和科學發(fā)展中迫切需要解決的問題。例如，在光學精密加工中平面、光學形貌、曲 率半徑等的測量占有重要地位。目前使用商售相位測量干涉儀（ＰＭＩ）并用誤差 分離技術(shù)可以使ＰＭＩ測量平面和近似平面的不確定度達到ｌｎｍ，在球面光學測 量中可得到更高的不確定度。美國ＮＩＳＴ Ｘ．ｒａｙ準確光學系統(tǒng)校準干涉儀（Ｘ ＣＡＬＩＢＩＲ）被設計用于平面、球面以及非球面光學系統(tǒng)的測量，對平面、光 學形貌、曲率半徑測量在孔徑達３００ｍｍ的范圍擴展。